Halbleiter-Kolloquium in Kooperation mit dem Cluster Leistungselektronik

Die Teilnahme ist kostenfrei und offen für alle Interessierten. Eine Voranmeldung ist nicht erforderlich.

Beginn: 17:15 Uhr

Für die Teilnahme am MS Teams-Meeting ist keine Installation notwendig. Das Meeting ist kostenlos und kann über den Browser abgerufen werden. 

Nutzen Sie die Gelegenheit, um sich zu informieren. Leiten Sie diese Informationen gerne auch an interessierte Kollegen weiter.

• Sensitive Spurenanalytik für die Halbleiterfertigung
  Silke Meyer – Fraunhofer CSP Halle
  Die hochauflösende ICPMS-Analytik bietet viele Möglichkeiten für die Halbleiterfertigung. Im Vortrag wird es insbesondere um die sensitive Detektion von Verunreinigungen und die Bestimmung von Dotierstoffkonzentrationen gehen. Dabei werden verschiedenste praktische Fragestellungen beleuchtet wie die Spurenanalyse in Oxid-, PSG- oder aSi-Schichten, die Qualitätsprüfung von Prozesschemikalien, Sputtertargets und Präkursoren oder die Reinheitsüberwachung von Arbeitsplätzen. Zusätzlich werden auch Möglichkeiten zur Detektion von organischen Kontaminationen diskutiert.
  

• Adaptive Probenahme- und Kontaminationskontrollmethoden für Silizium-, SiC- und verwandten Fertigungslinien sowie deren Lieferketten
  Markus Pfeffer – Fraunhofer IISB Erlangen
  Mit schrumpfenden Strukturgrößen, dünneren Schichten, neuen Materialien, 3D-Integration, Dünn-Wafertechnologien und komplexeren Designs ist die Kontaminationskontrolle eine ständige Herausforderung und eine Voraussetzung für eine kontinuierliche Qualitätskontrolle und das Erreichen hoher Ausbeuten in den Fertigungsprozessen. Neben den eingesetzten Analysemethoden werden insbesondere auch die Probennahme und Probenvorbereitung thematisiert.
  

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